【ITBEAR】在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，荷蘭的ASML公司一直是EUV光刻機(jī)的重要供應(yīng)商，但其決策似乎深受美國影響。美國通過控制ASML的光刻機(jī)出口，間接影響了全球芯片產(chǎn)業(yè)的格局。
然而，ASML的EUV光刻機(jī)正面臨發(fā)展困境，技術(shù)提升愈發(fā)困難，價格高昂令人難以接受。同時，中國光刻機(jī)技術(shù)取得突破，離浸潤式DUV光刻機(jī)僅一步之遙，一旦成功，美國將難以繼續(xù)控制。
新技術(shù)的涌現(xiàn)也對光刻機(jī)地位構(gòu)成挑戰(zhàn)。佳能推出的NIL納米壓印技術(shù)、電子束光刻技術(shù)等，均有望在不依賴EUV光刻機(jī)的情況下制造先進(jìn)芯片。
新封裝技術(shù)、Chiplet小芯粒技術(shù)以及光電芯片、碳基芯片等的出現(xiàn)，也為提升芯片性能提供了新途徑，進(jìn)一步削弱了光刻機(jī)的重要性。
在此背景下，ASML的光刻機(jī)作為美國控制全球芯片產(chǎn)業(yè)的工具，其效力正逐漸減弱。
