近期，中美在芯片產(chǎn)業(yè)的較量持續(xù)升級(jí)，美國(guó)方面對(duì)中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)實(shí)施了全面的封鎖策略，涵蓋從邏輯芯片、存儲(chǔ)芯片到AI芯片等多個(gè)領(lǐng)域。特別是針對(duì)先進(jìn)AI芯片、半導(dǎo)體設(shè)備以及高端軟件和技術(shù)，美國(guó)實(shí)施了一系列嚴(yán)格的出口管制，意圖通過(guò)技術(shù)手段遏制中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。
在這場(chǎng)科技博弈中，EUV光刻機(jī)成為了最為關(guān)鍵的設(shè)備之一。作為當(dāng)前芯片制造不可或缺的核心工具，EUV光刻機(jī)在7nm及以下工藝節(jié)點(diǎn)的芯片生產(chǎn)中發(fā)揮著不可替代的作用。然而，全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的ASML公司，在美國(guó)的壓力下，一直拒絕向中國(guó)出售這一關(guān)鍵設(shè)備。
美國(guó)不僅禁止EUV光刻機(jī)直接銷(xiāo)往中國(guó)，還嚴(yán)格限制其以任何形式進(jìn)入中國(guó)市場(chǎng)，包括禁止在中國(guó)設(shè)立的外國(guó)芯片廠進(jìn)口EUV光刻機(jī)。這一舉措無(wú)疑給中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)帶來(lái)了巨大的挑戰(zhàn)，但同時(shí)也激發(fā)了中國(guó)在自主研發(fā)EUV光刻機(jī)方面的決心和動(dòng)力。
在當(dāng)前的技術(shù)背景下，美國(guó)通過(guò)封鎖EUV光刻機(jī)，確實(shí)在一定程度上遏制了中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)向7nm及以下工藝節(jié)點(diǎn)的發(fā)展。然而，這也讓中國(guó)看到了突破封鎖的希望。一旦中國(guó)成功研發(fā)出EUV光刻機(jī)，將徹底打破美國(guó)的封鎖，使中國(guó)能夠自主生產(chǎn)7nm及以下的高端芯片。
值得注意的是，中國(guó)在EUV光刻機(jī)研發(fā)方面已經(jīng)取得了一定的進(jìn)展。哈爾濱工業(yè)大學(xué)的研究團(tuán)隊(duì)在“放電等離子體極紫外（EUV）光刻光源”項(xiàng)目上取得了重要突破，獲得了科技創(chuàng)新成果轉(zhuǎn)化大賽的一等獎(jiǎng)。這一成果表明，中國(guó)在EUV光刻光源技術(shù)方面已經(jīng)具備了深厚的積累，為自主研發(fā)EUV光刻機(jī)奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。
盡管從DUV光刻機(jī)到浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，再到EUV光刻機(jī)，中國(guó)還需要跨越兩步甚至更多的技術(shù)難關(guān)，但中國(guó)科學(xué)家和工程師們正全力以赴，攻克一個(gè)又一個(gè)技術(shù)難題。EUV光刻機(jī)的研發(fā)涉及復(fù)雜的供應(yīng)鏈、元件和技術(shù)，但中國(guó)正在逐步縮小與國(guó)際先進(jìn)水平的差距。
ASML公司也曾表示，如果美國(guó)持續(xù)封鎖，中國(guó)有望在幾年內(nèi)自主研發(fā)出EUV光刻機(jī)。這一預(yù)測(cè)無(wú)疑為中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)注入了強(qiáng)大的信心。一旦中國(guó)成功掌握EUV光刻機(jī)技術(shù)，將不再依賴(lài)進(jìn)口設(shè)備，能夠自主生產(chǎn)高端芯片，從而徹底結(jié)束芯片戰(zhàn)爭(zhēng)。
