近期，華興源創(chuàng)新獲得2件發(fā)明專利，主要用于對復(fù)雜微小結(jié)構(gòu)的3D成像，以精準定位待測產(chǎn)品的缺陷位置點。
其中，CN202411146646.0-融合圖像校正方法、裝置及成像系統(tǒng)，授權(quán)日為2024年11月5日，主要通過獲取圖像中目標物體的基準面，基于基準面的深度值對融合圖像進行校正，實現(xiàn)點云自動修復(fù)，解決融合圖像中的粘連問題，實現(xiàn)多幅深度圖像有效融合，精準定位待測產(chǎn)品缺陷點。
CN202411230042.4-基于像素點重建的圖像處理方法、裝置及系統(tǒng)，授權(quán)通知書發(fā)文日為2025年1月13日，主要針對單目多投3D顯微成像系統(tǒng)的點云修復(fù)后，由于陰影存在導(dǎo)致過度修復(fù)的問題，因此在粘連處理前對深度圖像中的待重建像素點是否需要重建進行判定，確定待重建像素點的深度值的準確性，進而提高得到的融合圖像的準確度。
此外，近期公司還申請了一件AI+Demura的技術(shù)，CN202510000124.8-顯示面板亮度補償模型構(gòu)建方法、補償方法及裝置，申請日為2025年1月2日，該方案將人工智能與顯示面板缺陷修復(fù)方式進行有效結(jié)合，在傳統(tǒng)缺陷檢測的基礎(chǔ)上，融合AI及缺陷修復(fù)算法，通過實時進行信號交互和動態(tài)補償機制，能夠更準確地捕捉和處理不同類型的Mura現(xiàn)象，超越了傳統(tǒng)算法的處理能力，尤其在低灰階Mura處理方面有明顯的提升，通過不停的獲取待測圖像，不停的補償訓(xùn)練，確保補償能夠?qū)崟r適應(yīng)設(shè)備狀態(tài)變化，提升補償?shù)膶嵱眯院托Ч?/p>
