近期，國際半導(dǎo)體制造設(shè)備巨頭ASML公司宣布了一項重要進展，其最新款的EUV光刻機EXE:5200即將面世。這款光刻機作為EXE:5000的升級版，性能表現(xiàn)更為卓越，然而卻明確表示不會向中國廠商出售。
據(jù)悉，EXE:5200在晶圓吞吐量上實現(xiàn)了顯著提升，相較于前代EXE:5000的每小時185片以上，新機型將能夠更高效地支持2nm工藝的量產(chǎn)。這一改進對于滿足未來半導(dǎo)體行業(yè)對高精度、高效率制造設(shè)備的需求具有重要意義。
早在之前，ASML就已宣布英特爾訂購了業(yè)界首臺TWINSCAN EXE:5200光刻機。這款光刻機不僅具備高數(shù)值孔徑，還擁有每小時超過200片的晶圓處理能力，是極紫外（EUV）大批量生產(chǎn)系統(tǒng)中的佼佼者。英特爾的此次訂購標(biāo)志著ASML在引入0.55 NA EUV技術(shù)的道路上取得了重要突破。
值得注意的是，無論是TWINSCAN EXE:5000還是EXE:5200，都采用了0.55的數(shù)值孔徑，相較于前代EUV光刻機的0.33數(shù)值孔徑透鏡，這一改進大大提高了精度，使得新機型能夠為更小的晶體管功能提供更高分辨率的模式。這對于推動半導(dǎo)體工藝技術(shù)的進一步發(fā)展具有關(guān)鍵作用。
ASML表示，EUV 0.55 NA的設(shè)計旨在從2025年開始實現(xiàn)多個未來節(jié)點，這是業(yè)內(nèi)的首次部署。隨著這一技術(shù)的逐步推廣，預(yù)計將會有更多采用類似密度的內(nèi)存技術(shù)涌現(xiàn)，進一步推動半導(dǎo)體行業(yè)的創(chuàng)新發(fā)展。然而，對于中國廠商而言，由于ASML的限制性政策，他們可能無法及時獲得這款先進的EUV光刻機，這無疑將對其在半導(dǎo)體領(lǐng)域的競爭力產(chǎn)生一定影響。
